CHR777 Christina Unstress Clarifying Mask (шаг 7)- Очищающая маска, 250мл

Активные ингредиенты:
Глицерин, диоксид титана, оксид цинка, сквалан, токоферола ацетат, натрия гиалуронат, линолевая кислота, аллантоин, фермент Термофилов, олеиновая кислота, экстракт корня солодки, экстракт центеллы азиатской, экстракт корня горца гребенчатого, экстракт листьев зеленого чая, экстракт цветков ромашки, экстракт листьев розмарина, линоленовая кислота.

Полный состав:
Deionized water (Aqua); Caprylic/Capric Triglyceride; Glycerin; Cetyl Alcohol; Titanium Dioxide; Zinc Oxide; Glyceryl Stearate; PEG-40 Stearate; Petrolatum; Squalane; Phenoxyethanol; Sorbitan Tristearate; Caprylyl Glycol; Propanediol; Tocopheryl Acetate; CI 77289; Hydroxyethylcellulose; Sodium hyaluronate; Linoleic Acid; Allantoin; Chlorphenesin; Perfume; Thermus Thermophillus Ferment; Butylene Glycol; Oleic Acid; Glycyrrhiza Glabra (Licorice) Root Extract; Centella Asiatica Extract; 1,2-Hexanediol; Sodium acetate; Scutellaria Baicalensis Root Extract; Polygonum Cuspidatum Root Extract; Camellia Sinensis Leaf Extract; Isopropyl Alcohol; Cellulose; Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower; Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Extract; Linolenic Acid; Tocopherol; Potassium Sorbate; Benzyl Salicylate.

Применение:
Нанести на кожу лица, шеи, декольте на 10-15 минут, затем смыть с помощью раствора, приготовленного из воды и Концентрата плюмерии (шаг 4).

Рекомендации:
У лиц с повышенным уровнем аллергической чувствительности может возникнуть перекрестная реакция на различные компоненты, о которых они могут не знать заранее.