CHR765Christina Unstress Replanishing Mask - Восстанавливающая маска, 50мл

Активные ингредиенты:
Цетерилэтилгексаноат, глицерин, карбонат цинка, фермент Термофилов, циклопентасилоксан, масло ши, изомерат сахарида, полисиликон -11, хлорфенезин, экстракт огурца, натрия гиалуронат, токоферола ацетат, аллантоин, этилгексилглицерин, глюкоза, линолевая кислота, олеиновая кислота, экстракт цветка плюмерии белой, оксид железа, аскорбил фосфат магния, арбутин, лимонная кислота, линоленовая кислота, токоферол (Е).

Полный состав:
Deionized water (Aqua); Cetearyl Ethylhexanoate; Glycerin; Cetearyl Alcohol; Zinc carbonate (CI 77950); Thermus Thermophillus Ferment; Cyclopentasiloxane; Cetearyl Glucoside; Butyrospermum Parkii Butter; Dimethicone; Stearyl Alcohol; Cetyl Alcohol; Phenoxyethanol; Saccharide Isomerate; Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer; Polysilicone-11; Chlorphenesin; Triethanolamine; Cucumis Sativus (Cucumber) Fruit Extract; Butylene Glycol; Sodium hyaluronate; Tocopheryl Acetate; Allantoin; Isohexadecane; Ethylhexylglycerin; Sodium Acrylate/Sodium Acryloyldimethyl Taurate Copolymer; Glucose; Linoleic Acid; Perfume; Oleic Acid; Plumeria Alba Flower Extract; Iron Oxide (CI 77492); 1,2-Hexanediol; Caprylyl Glycol; Polysorbate 80; Ammonium Polyacryloyldimethyl Taurate; Sodium Benzoate; Magnesium Ascorbyl Phosphate; Arbutin; Polysorbate 20; Sorbitan Oleate; Potassium Sorbate; Sodium Metabisulfite; Citric Acid; Sodium Citrate; Linolenic Acid; Sorbic Acid; Tocopherol; Benzyl Salicylate.

Применение:
Нанести на очищенную кожу на 10-15 минут. Затем смыть теплой водой и нанести сыворотку и/или крем. Можно применять как ночную маску в случае выраженного повреждения кожи, утром смыть теплой водой и нанести сыворотку и/или крем. Использовать 2 раза в неделю.

Рекомендации:
У лиц с повышенным уровнем аллергической чувствительности может возникнуть перекрестная реакция на различные компоненты, о которых они могут не знать заранее.